姓名：刘洪超

性别：男

学历：博士

职称/职务：讲师

地址：3499cc拉斯维加斯物理南楼515

电话：

E-mail：hcliu12@sina.cn

所在研究所/科室：光学与光信息工程研究所

研究领域：

微纳光学方向，目前主要研究超分辨光刻及其在微纳光学、光电子学中的应用。

学习经历：

博士，中国科学院大学光电技术研究所，2015年9月-2018年7月

硕士，贵州大学，2012年9月-2015年7月

学士，山东理工大学，2008年9月-2012年7月

工作经历：

2018年8月至今，3499cc拉斯维加斯物理学院讲师

教学工作：

主讲《光电技术》、《传感器技术与原理》

科研活动：

主要论著：

1.H. C. Liu, W. J. Kong, Q. G. Zhu, Y. Zheng, K. S. Shen, J. Zhang and H. Lu, “Plasmonic interference lithography by coupling the bulk plasmon polariton mode and the waveguide mode”, Journal of Physics D, 53(13), (2020).

2. H. C. Liu, W. J. Kong, K. P. Liu, C. W. Zhao, W. J. Du, C. T. Wang, L. Liu, P. Gao, M. B. Pu and X. G. Luo, “Deep subwavelength interference lithography with tunable pattern period based on bulk plasmon polaritons”, Optics Express, 25(17), (2017).

3. H. C. Liu, Y. F. Luo, W. J. Kong, K. P. Liu, W. J. Du, C. W. Zhao, P. Gao, Z. Y. Zhao, C. T. Wang, M. B. Pu and X. G. Luo, “Large area deep subwavelength interference lithography with a 35 nm half-period based on bulk plasmon polaritons”, Opt. Mater. Express, 8(2), (2018).

奖励和荣誉：